1、  氯化氫合成系統(tǒng)：

     目前采用的氯化氫合成有鋼爐和石墨爐兩種，鋼爐的壓力稍高，但是不耐腐蝕，所以目前多數(shù)多晶硅廠家采用的是石墨爐。合成過后的氯化氫需要除水，可以采用的方法有硫酸干燥法脫水，吸附法脫水，深冷脫水，四氯化硅洗滌化學法除水。水分合格后的氯化氫送去合成三氯氫硅。

  三氯氫硅粗料除雜

     經過除塵后的三氯氫硅氣體中有極易冷凝下來堵塞管道的物質，需要將這部分雜質除去，不然管道極易堵塞，維修量大，除雜系統(tǒng)應包括 3 部分，不做解釋。

2、  冷凝系統(tǒng)

     將除雜后的三氯氫硅氣體冷凝下來，一般為常壓冷凝和加壓冷凝連用，得到粗料。

3、  回收系統(tǒng)

     在未冷凝下來的氣體中含有部分氯硅烷，氯化氫，大量氫氣，和部分氮氣（少部分廠家沒有），為解決環(huán)保壓力和成本問題需要將這部分物料回收，最常規(guī)的方法是變溫變壓吸附法回收，這個國內專業(yè)的廠家很多，不做細說。

     還有一種方法分離氫氣、氯化氫、氯硅烷的方法為吸收解析法，這套工藝技術使用效果未知。