最早合成HCl氣體的方法
隨著我國工業(yè)生產(chǎn)中對于氯化氫的純度要求越來越高,合成法制備氯化氫越來越不能滿足工業(yè)需求。這也促使氯化氫生產(chǎn)企業(yè)制備氯化氫的方法,由合成法向脫吸法等所得氯化氫氣體濃度較高的制備方法發(fā)展。
用氯和氫在合成爐中進行燃燒反應(yīng)生成氯化氫氣體是八十年代初為適應(yīng)我國電子工業(yè)的迅速發(fā)展而提出的,在技術(shù)上較為先進,由合成爐出來的氯化氫氣體經(jīng)常溫、低溫干燥和吸附凈化,在低溫、低壓下冷凝,排除不凝氣體雜質(zhì),以液態(tài)裝瓶。氯、氫合成中,氫過量5%左右,氯化氫氣體中含氫高,以間歇精餾裝置除氫。此外,原料氫是經(jīng)鈀膜擴散提純,生產(chǎn)規(guī)模受到一定限制。
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